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電子行業(yè)EDI超純水設(shè)備
電子超純水系統(tǒng)
電子超純水系統(tǒng)是專為電子行業(yè)生產(chǎn)超高純度水的設(shè)備,能為芯片制造、半導(dǎo)體加工等對(duì)水質(zhì)要求高的工藝提供優(yōu)質(zhì)水源,去除水中幾乎所有的雜質(zhì),滿足精密制造對(duì)水質(zhì)的嚴(yán)苛要求。
產(chǎn)品分類
以下是電子超純水系統(tǒng)的介紹:
系統(tǒng)概述
電子超純水系統(tǒng)是專為電子行業(yè)生產(chǎn)超高純度水的設(shè)備,能為芯片制造、半導(dǎo)體加工等對(duì)水質(zhì)要求高的工藝提供優(yōu)質(zhì)水源,去除水中幾乎所有的雜質(zhì),滿足精密制造對(duì)水質(zhì)的嚴(yán)苛要求。
系統(tǒng)構(gòu)成
- 預(yù)處理系統(tǒng):包括多介質(zhì)過濾器去除懸浮物、泥沙等大顆粒雜質(zhì);活性炭過濾器吸附余氯、有機(jī)物等;精密過濾器攔截更小粒徑的顆粒,保護(hù)后續(xù)設(shè)備。
- 反滲透系統(tǒng):利用高壓泵使水通過反滲透膜,去除水中的大部分鹽分、有機(jī)物、微生物等,是除鹽的關(guān)鍵步驟。
- 離子交換系統(tǒng):通常采用混床樹脂,進(jìn)一步去除水中殘留的微量離子,實(shí)現(xiàn)深度除鹽,提高水的純度。
- 精處理系統(tǒng):有超濾裝置去除微小顆粒和膠體;紫外線殺菌器殺滅細(xì)菌和病毒;拋光混床對(duì)水質(zhì)進(jìn)行最終的精細(xì)處理,確保水質(zhì)達(dá)到超純標(biāo)準(zhǔn)。
- 供水系統(tǒng):由超純水儲(chǔ)存罐(氮封水箱)和輸送泵等組成,通過循環(huán)管路將超純水穩(wěn)定地輸送到各個(gè)用水點(diǎn),保證用水的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
系統(tǒng)特點(diǎn)
- 超高水質(zhì):能生產(chǎn)出電阻率高達(dá)18MΩ·cm以上的超純水,滿足電子行業(yè)嚴(yán)格的水質(zhì)要求。
- 自動(dòng)化程度高:采用先進(jìn)的自動(dòng)化控制系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)程監(jiān)控、自動(dòng)調(diào)節(jié)運(yùn)行參數(shù)、故障報(bào)警和診斷等功能,減少人工操作,提高系統(tǒng)運(yùn)行的可靠性和穩(wěn)定性。
- 穩(wěn)定運(yùn)行:系統(tǒng)設(shè)計(jì)合理,關(guān)鍵設(shè)備采用高品質(zhì)材料和部件,具備良好的抗腐蝕、抗污染能力,可長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行,降低維護(hù)成本。
應(yīng)用領(lǐng)域
- 半導(dǎo)體制造:用于芯片清洗、光刻、蝕刻等工藝,防止雜質(zhì)影響芯片性能和成品率。
- 顯示面板生產(chǎn):如液晶面板、OLED面板制造中的鍍膜、清洗等工序,保證面板的顯示質(zhì)量和穩(wěn)定性。
- 電子元器件生產(chǎn):在電容器、電阻器、集成電路封裝等生產(chǎn)過程中,提供高純度的清洗用水和工藝用水。
核心技術(shù)指標(biāo)
指標(biāo) | 半導(dǎo)體行業(yè)要求 | 技術(shù)參數(shù)說明 |
電阻率 | ≥18.2 MΩ·cm(25℃,SEMI F78) | 動(dòng)態(tài)穩(wěn)定,波動(dòng)≤±0.1 MΩ·cm,反映離子含量極低。 |
硼離子(B3?) | ≤0.05 μg/L(ASTM-D5127-13) | 硼為P型摻雜劑,過量會(huì)導(dǎo)致n型硅反型,需通過靶向樹脂深度去除至≤1 ppt(部分工藝)。 |
總有機(jī)碳(TOC) | ≤5 ppb | 有機(jī)物影響半導(dǎo)體材料性能,需185nm波長(zhǎng)紫外線+活性炭聯(lián)合處理。 |
金屬離子 | ≤1 ppt(Na?、K?、Fe3?等) | 堿金屬和重金屬導(dǎo)致PN結(jié)失效,通過離子交換樹脂精準(zhǔn)控制。 |
顆粒污染 | ≤200個(gè)/mL(≥0.05μm,SEMI F83) | 亞微米級(jí)顆粒需通過超濾+精密過濾去除,防止電路短路。 |
微生物 | ≤0.1 CFU/mL | 微生物代謝產(chǎn)物含磷,需紫外線殺菌+0.22μm終端過濾。 |
典型工藝
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